電鍍涂裝反滲透設(shè)備概述

電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來清洗。

電鍍涂裝反滲透設(shè)備主要用于電鍍涂裝用水的純水制取，通常系統(tǒng)由預(yù)處理系統(tǒng)、超濾裝置、反滲透裝置、EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業(yè)對水質(zhì)的要求。

技術(shù)原理
EDI (連續(xù)電解除鹽技術(shù)) ：是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。EDI設(shè)施的除鹽率可以高達99%以上，如果在EDI之前使用反滲透設(shè)備對水進行初步除鹽，再經(jīng)EDI除鹽就可以生產(chǎn)出電阻率高達15MΩ. CM以上的超純水。

FEDI：獨立的分段設(shè)計，進水要求低，產(chǎn)水電導(dǎo)率40us/cm以下的單級反滲透既可以滿足供水要求。使用不同的電壓驅(qū)動，對強弱離子分離去除，為去離子創(chuàng)造良好條件，產(chǎn)水導(dǎo)電率可達0. 1us/cm以下。濃水可回收至反滲透系統(tǒng)，綜合回收率高達90%-95%。

拋光混床：一般情況用在工藝末端，用來進一步提高產(chǎn)水水質(zhì)。采用高交換容量、充分再生、無化學(xué)析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達到18MΩ. CM以上。


電鍍涂裝反滲透設(shè)備進水水質(zhì)要求

電鍍涂裝反滲透設(shè)備參數(shù)

電鍍涂裝反滲透設(shè)備特性

1、產(chǎn)水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定

2、連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機

3、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能

4、不須酸堿再生，無污水排放，無酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲運

5、先進的膜保護系統(tǒng)，關(guān)機時可自動沖洗膜面污染物，延長膜使用壽命

6、能耗低，水利用率高，運行費用及維修成本低

7、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省基建投資